TDK在“CEATEC JAPAN 2010”上，發布了利用濺射法替代原來的涂布法對ITO層進行成膜的ITO透明導電性薄膜。據TDK介紹，通過導入濺射法，實現了低電阻及高透射率。另外，由于底板采用PET薄膜而非玻璃，還實現了薄型輕量化。目前該公司正利用樣品開展受理訂單的活動。

       利用濺射法可實現低電阻及高透射率是因為ITO的結晶之間的接觸性增強。此次通過導入濺射方式，與原來的涂布方式相比，表面電阻從700Ω/sp降低到了150Ω/sq，同時全光線透射率從89％提高到了92％。TDK打算面向靜電容量式觸摸面板銷售此次開發的ITO透明導電性薄膜。另外，采用原來涂布方式的ITO透明導電性薄膜則定位于面向電阻膜式觸摸面板。

CEATEC：TDK展出ITO透明導電性薄膜

       ITO透明導電性薄膜是通過在PET薄膜上形成ITO層而實現的。不過，此次采用濺射方式的薄膜在PET薄膜與ITO層之間形成了可調整色調及防反射的光學調整層。調整色調時可除去ITO特有的黃色將其調整為無色透明，或者調整為略帶有一點藍色的顏色。這些光學調整層利用涂布法形成。TDK在制造磁記錄媒體時積累的涂布技術方面具有優勢。該公司打算通過利用該涂布技術形成光學調整層，并導入濺射技術形成ITO從而提高ITO膜的特性，來實現與其他公司的差異化。

（編輯 Akira）